制作芯片過程中的作用不同，光刻機是將設計好的電路圖用光學的方式刻印在硅片上，要求的精度相當高，高品質、高精度的光刻機，決定了芯片的產品合格率（效益）。

蝕刻機是將光刻以后的硅片多余的腐蝕去除。制作難度低于光刻機。

刻蝕機和光刻機的區別如下：首先工藝不同：刻蝕機是將硅片。上多余的部分腐蝕掉，光刻機是將圖形刻到硅片上，其次難度不同：光刻機的難度和精度大于刻蝕機。

光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，這兩個東西都必須頂尖。

這倆機器最簡單的解釋就是光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面，刻蝕機再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉，這樣看起來似乎沒什么難的，但是有一個形象的比喻，每一塊芯片上面的電路結構放大無數倍來看比整個北京都復雜，這就是這光刻和蝕刻的難度。